Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал:
https://er.knutd.edu.ua/handle/123456789/18610
Повний запис метаданих
Поле DC | Значення | Мова |
---|---|---|
dc.contributor.author | Ущаповський, Д. Ю. | uk |
dc.contributor.author | Лінючева, О. В. | uk |
dc.contributor.author | Редько, Р. М. | uk |
dc.contributor.author | Доронкіна, Л. А. | uk |
dc.date.accessioned | 2021-10-08T22:32:05Z | - |
dc.date.available | 2021-10-08T22:32:05Z | - |
dc.date.issued | 2019 | |
dc.identifier.citation | Електроосадження тривимірних структурованих осадів з олова, допованого кадмієм [Текст] / Д. Ю. Ущаповський, О. В. Лінючева, Р. М. Редько, Л. А. Доронкіна // Promising materials and processes in applied electrochemistry – 2019 : monograph / ed.: V. Z. Barsukov, Yu. V. Borysenko, V. G. Khomenko, O. V. Linyucheva ; editor-in-chief V. Z. Barsukov. - Kyiv : KNUTD, 2019. - С. 67-75. | uk |
dc.identifier.uri | https://er.knutd.edu.ua/handle/123456789/18610 | - |
dc.description.abstract | Cadmium-doped tin coatings (0.45 wt.% of Cd) with a highly developed surface structure, a promising material for the electro-reduction of carbon dioxide to formates have been electrodeposited. For electrodeposition, a low-toxic sulfate electrolyte has been proposed, which allows to obtain microstructured deposits with a high uniformity and reproducibility of structure. It is shown that the electrodeposition of cadmium doped tin from the selected electrolyte occurs with diffusion limitations caused by the presence of the organic additive OP-10, which also explains the formation of deposits with an appropriate structure. | en |
dc.language | uk | |
dc.subject | electrodeposition | en |
dc.subject | cadmium doped tin | en |
dc.subject | structured deposits | en |
dc.subject | diffusion limitations | en |
dc.subject | electrocatalyst | en |
dc.title | Електроосадження тривимірних структурованих осадів з олова, допованого кадмієм | uk |
dc.title.alternative | Electrodeposition of three-dimensional structured cadmium doped tin coatings | |
dc.type | Article | |
local.contributor.altauthor | Uschapovskyi, D. Yu. | en |
local.contributor.altauthor | Linyucheva, O. V. | en |
local.contributor.altauthor | Redko, R. M. | en |
local.contributor.altauthor | Doronkina, L. A. | en |
local.source | Promising materials and processes in applied electrochemistry – 2019 | uk |
local.subject.method | 0 | |
Розташовується у зібраннях: | Наукові публікації (статті) |
Файли цього матеріалу:
Файл | Опис | Розмір | Формат | |
---|---|---|---|---|
Promising_2019_P067-075.pdf | 602,65 kB | Adobe PDF | Переглянути/Відкрити |
Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.